영지버섯 추출물 특허 성분으로 M자형 탈모 잡는다

코스맥스, 2년여 연구 탈모완화 기능성 특허 소재 '가녹실' 개발
맞춤형 헤어케어 '쓰리와우' 플랫폼 적용, 중국·아세안에 신제품

CMN뉴스팀 기자 [기사입력 : 2023-06-16 14:12:28]

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[CMN] 글로벌 화장품 연구·개발·생산(ODM) 기업 코스맥스가 2년여의 연구 끝에 영지버섯 추출물을 활용한 천연 탈모 완화 기능성 소재를 개발했다고 밝혔다.

맞춤형 화장품 플랫폼 3WAAU(쓰리와우)의 샴푸, 트리트먼트 제품에 해당 소재를 적용하고, 연내 중국 등 글로벌 탈모 화장품 시장을 겨냥한 제품을 선보일 예정이다.

코스맥스는 영지버섯 추출물을 활용한 특허 소재 가녹실(Ganoxyl)’이 함유된 샴푸와 토닉 제품이 식품의약품안전처의 탈모완화 기능성 화장품 심사를 통과했다고 15일 밝혔다.

코스맥스는 인체 유효성 시험을 통해 안드로겐성 및 M자형 탈모 모델에서 가녹실의 탈모완화 효능을 입증했다. 안드로겐성 탈모증은 머리카락의 성장기가 짧아지며 두께가 가늘어지고 빠지는 질환이다. 남성에게는 이마와 정수리 부위에서 탈모가 시작되어 알파벳 M자 모양으로 진행하는 ‘M자형 탈모가 대표적인 유형이다.

코스맥스는 탈모증을 가진 피실험자에게 가녹실 1% 함유 샴푸와 토닉을 적용한 결과 8주 차 이후 유의한 모발 수 증가를 확인했다. 16, 24주 경과 시점에서도 지속적인 탈모 완화 효과가 관측됐다.

가녹실은 탈모를 유발하는 여러 요인 중 세포 생장(cell generation) 저하와 외부 자극으로 인한 두피 염증에서 비롯된 탈모 증상 완화에 효과를 보였다. 모발 성장인자의 감소를 억제하는 동시에 발현을 활성화해 모발 재생과 강화 효능을 입증했다. 또한, 미세먼지에 의한 염증 반응을 억제해 모발을 보호하는 효과를 나타냈다.

가녹실의 원료로 사용되는 영지버섯은 한의학에서 인삼에 비견되는 고급 한방 소재다. 자양강장, 정신 안정, 각종 염증 증상 완화 등에 효과가 있는 것으로 알려져 있다. 여러 연구를 통해 피부염이나 자외선에 의한 피부 손상 완화 등의 효능도 증명된 바 있다.

코스맥스는 중국 장수성 내 청정 재배 시설을 갖춘 농가와 계약 재배를 통해 영지버섯을 수급한다. 1년간 재배한 영지버섯을 수작업으로 채취한 후 2번의 농축·정제 과정을 거쳐 가녹실을 생산한다. 가녹실 1킬로그램에는 영지버섯 약 19개 분량의 추출물이 함유돼 있다.

코스맥스는 올해 상반기 중 본격적으로 제품화를 시작해 다양한 프리미엄 천연 탈모완화 기능성 제품을 선보일 예정이다. 최근 급성장하는 중국 내 탈모 화장품 시장을 겨냥한 현지 맞춤형 제품도 준비 중이다.

더불어 코스맥스의 맞춤형 화장품 플랫폼인 3WAAU(We Are All Unique/쓰리와우)의 샴푸 제품 등에 가녹실성분을 적용해 사용자 만족도를 극대화할 예정이다.

코스맥스는 그동안 클라우드 기반의 디지털 인프라, 인공지능(AI) 기반의 처방 시스템, 스마트팩토리 등을 구축해 디지털 코스맥스로 전환해 왔다.

코스맥스가 선보인 3WAAU는 공식 웹사이트 및 모바일 앱을 통해 11 문진을 진행하고 총 1260만 가지 조합 중 나에게 맞는 ‘3WAAU 샴푸‘3WAAU 트리트먼트등 헤어케어 제품을 만들 수 있는 맞춤형 화장품 플랫폼이다.

3WAAU에서 비듬, 각질, 탈모, 가려움 등 두피·모발과 관련된 진단을 받고 마지막으로 원하는 향까지 고르면 나만의 처방이 생성된다. 개개인마다 다른 처방은 MOQ(최소주문수량) 1개까지도 생산 가능한 설비에서 주문 후 24시간 이내 조제돼 배송된다.

코스맥스 관계자는 최근 2030 세대를 중심으로 탈모 관심도가 증가함에 따라 탈모완화 기능성 소재 가녹실을 개발하게 됐다두피를 비롯한 피부 관리 연령대가 점차 낮아지는 만큼 다양한 피부 고민에 도움을 줄 수 있는 혁신 소재 개발을 이어 나갈 것이라고 말했다.

한편, 코스맥스는 서울대학교병원 피부과와 스트레스에 의한 두피 노화로 발생하는 탈모와 가녹실의 탈모 완화 메커니즘 간 관계를 규명하는 공동 연구를 진행 중이다. 코스맥스는 해당 내용을 지난 5월 세계피부연구학회인 ISID 2023(International Societies for Investigative Dermatology 2023)에서 발표했으며, 연내 SCIE급 학회지 논문에 투고 예정이다.
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